中商情报网讯:光刻胶又叫“光致抗蚀剂”,是一种在紫外光等光照或辐射下,其溶解度会产生显着的改变的薄膜资料。光刻胶是一种重要的半导体资料,在半导体工业中占有主体位置。跟着半导体技能的开展,光刻胶的开展前途也渐渐变得宽广。
光刻胶工业链上游为原资料,包括树脂、单体、光引发剂和溶剂等;中游为光刻胶制作环节,光刻胶产品最重要的包括PCB光刻胶、面板光刻胶、半导体光刻胶。下流为使用环节,最重要的包括PCB、半导体、面板显现、芯片等。
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